含氰、鉻電鍍廢水處理的ORP控制

        于涂裝、電泳、電鍍、半導體及印刷線電路板廢水以及含油、酸和部分印染廢水處理的自動控制。
        以含Cr⁶⁺、CN^—電鍍廢水為例，在一定的pH值條件下，通過投加NaHSO₄等還原劑可以將Cr⁶⁺還原成Cr³⁺，變為不溶性氫氧化物沉凝而加以除去。對于CN^—可投加NaCIO或H₂O₂等可以將其氧化成N₂。具體步驟分兩步，即采用兩級堿性氯化法：第一步，在堿性條件下(pH值為11左右)投加NaCIO，控制ORP為300mV左右，完成局部氧化破氰；第二步，保持pH值為8左右，繼續投加NaCIO及H₂SO₄，控制ORP為650mV左右，實現完全氧化破氰過程，將氰化物分解為CO₂和N₂。